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半导体

单晶金刚石

采用高强度、高纯度金刚石作为生产原料,产品粒度分布集中、无超大颗粒,形貌规整、无片状长条颗粒、圆形度高、表面洁净度高、热稳定性高、耐磨性能好。

可供粒度:0~500-600um等。

产品优势:金刚石微粉研磨抛光精度出色,适用于多种硬脆材料加工,且性能稳定、可提高加工效率及产品良率。

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类多晶金刚石

该产品通过特殊工艺使金刚石颗粒呈蜂窝状,具有多刃角的特性,主要应用于碳化硅、蓝宝石衬底晶片、光学镜片、陶瓷和合金等领域的精密研磨、抛光,是多晶金刚石的经济替代型产品。

可供粒度:1-3um~40-60um

产品优势:硬度适中、把持力强、自锐性强、削效率高、可显著降低工件表面的粗糙度。

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多晶金刚石

该产品借助炸药爆炸产生的高温高压,将石墨等碳源转化成多晶金刚石材料,其由众多小于100纳米的微晶通过共用晶面聚集而成有,适用于半导体、光学等领域的研磨抛光。

可供粒度:0.1um~10um 等。

产品优势:磨削效率高、使用寿命长、自锐性强、不易划伤工件。

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团聚金刚石

团聚金刚石独特的多刃角特性,使其在研磨抛光过程中产生高效的磨削力,且能有效降低工件表面的划伤和残余应力。适用于各类高效和精密的抛光、研磨,如半导体晶片、陶瓷材料及各类金属材料的加工。

可供粒度:0-0.25um~3-6um等。

产品优势:团聚金刚石独特的多刃角特性,使其在研磨抛光过程中产生高效的削力,且能有效降低工件表面的划伤和残余应力。

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氧化铈抛光液

核心粉体自主制备,品质稳定可控,适配性强。抛光速率快,能大幅提升生产效率,且性价比突出,在保证加工质量的同时有效降低成本,是行业优选解决方案。

可供粒度:可根据需求定制化生产。

产品优势:速率高、分散稳定性好、适配工艺灵活。

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氧化铝抛光液

氧化铝粉体自主制备,粒径可按需精准定制,适配不同客户需求。本产品适用范围广,全面覆盖各类晶圆抛光领域,同时具备高效抛光特性,能大幅提升生产效率。

可供粒度:可根据需求定制化生产。

产品优势:抛光速率高、定制适配灵活、加工表面质量优异。

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金刚石研磨液

产品简介:我司生产的金刚石研磨液采用自主研发的优质金刚石粉、悬浮剂、分散剂、PH调节剂等配方组成,类别包括单晶研磨液、多晶研磨液、类多晶研磨液、团聚研磨液。广泛应用于半导体SiC、LED、光学、陶瓷等领域。

可供粒度:0-300μm等。

产品优势:速率高、划伤少、分散性好、悬浮性高、易清洗。

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减薄砂轮

我司减薄砂轮的核心原材料全自主生产,采用高强金刚石粉及自研结合剂,从源头把控品质。产品适配各类主流设备和各尺寸晶片,磨耗比低、表面质量与TTV控制优异,性能媲美进口产品。

可供粒度:2000#、8000#、20000#、30000#等。

产品优势:寿命长、品质稳定、磨削效果好、电流负载低,加工后的产品表面形貌达到国际领先水平。

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金刚线用金刚石

该产品采用高品级金刚石破碎而成,具有强度高、寿命长、刃角锋利等特点,在光伏能源线锯、磁性材料、SiC等硬脆新材料的加工中应用广泛。

可供粒度:5/6/7um等。

产品优势:粉体强度高、粒度集中、无杂质、寿命高、无长条针棒状。

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砂浆切割金刚石

该产品使用高质量金刚石破碎而成,具有形貌规则、粒度集中、切削速率快等特点,主要应用于SiC衬底切割、晶体切割等领域。

可供粒度:5/7/10um等。

产品优势:粒度分布均匀、无杂质、寿命高、加工后晶片面型指标出色。

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